1987년 설립된 (주)에프에스티는 반도체 제조공정에 사용되는 포토마스크 보호용 막인 Pellicle을 생산하고 있습니다. 1994년 Deep UV Pellicle을 성공적으로 개발해 벤처기업대상을 수상하였습니다.
일본과 대만을 비롯해 세계시장에서 점차 커다란 명성을 얻고 있는 우리의 Pellicle은 ISO9001을 획득하였고, 한국 Pellicle시장의 약 80%를 점유하고 있습니다.(주)에프에스티 기술연구소는 1998년 Thermoeletric Chiller를 개발해 이를 세계시장의 요구에 부응코저 2000년 1월 유럽의 CE마크를 획득하였습니다.Thermoeletric Chiller는 높은 기술력과 뛰어난 품질을 인정받아 세계의 유수한 반도체 제조업체에 공급하고 있습니다.
상호변경- (주)에프에스티기흥공장준공 및 본사이전
KOSDAQ 등록
Deep-UV(ArF) Pellicle 개발
Thermo-electric Chiller 개발
ISO9001 인증 획득제8회 벤처기업대상 수상
Deep-UV(KrF) Pellicle 개발
기업부설연구소 설립 (화인기술연구소)
Pellicle 국내생산성공
화인반도체기술(주) 설립 (자본금 : 50 백만원)
반도체 동탑산업훈장 수훈중국 시안 법인 설립ISO14064 인증 획득칠러 생산 5천대 돌파
EUVOTM 세계일류상품 선정동탄공장 준공OHSAS18001 인증 획득
오산공장 준공
영문상호 변경( FST Inc. → FINE SEMITECH Corp.)
ISO140010 인증 획득
윤리경영선포
LCD용 펠리클 개발완료
2017 벤처 천억기업 선정OLED 측정장비 개발착수Scrubber관련 합작법인 설립칠러 1만대 돌파
동탄 본관동 신축ISO 27001 인증 획득
삼성전자 EHS Role모델 인증칠러 판매 7천대 돌파
펠리클 세계일류상품 선정병역특례지정업체 인증직장어린이집 개원
ISO 22301 인증획득
FST USA 설립
칠러 19,000대 돌파세계 최초 EPMD 장비 개발 완료
화인세라텍 설립
방교사업장 준공오산사업장 F라인 준공
삼성전자 글로벌환경안전 혁신 대회 우수혁신상 수상이솔 설립
